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微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究
CMP 纳米磨料
2008/11/13
成功实现了分散度小的粒径可控生长，有效控制了金属杂质含量；解决了纯度及稳定性问题，提高了适用性。制得可用于不同材质抛光的不同粒径范围，具有较小分散度的硅溶胶，为CMP工艺提供了合格的精抛磨料。此成果完成后，用于微电子用抛光液并可实现大规模生产，使科技成果得以转化，推向国际市场，年效益达到近千万元。